BJ-X手持金相顯微鏡
便攜式金相顯微鏡由于自帶垂直照明光源，可以很方便的用于現場或無法制作試樣時鑒別各種金屬和合金的組織結構可廣泛的應用在工廠，實驗室進行鑄件質量的鑒定，原材料檢驗或對材料處理后金組織的研究分析等工作，也可以用作古董寶石及作表面細微觀察之用。
LWT300LMDT無窮遠明暗場金相顯微鏡
LWT300LMDT顯微鏡可進行明視場、暗視場、簡易偏光觀察。是半導體檢驗、電路封裝、電路基板、材料等行業理想的儀器。本儀器配置大視野目鏡和長工作距離平場消色差物鏡(無蓋玻片)，視場大而清晰， 粗微動同軸調焦機構，粗動松緊可調，帶限位鎖緊裝置，微動格值:0.8μm，三目鏡筒,可自由切換正常觀察/偏光觀察,明視場/暗視場觀察. 可進行100%透光攝影。
LW400MTDT正置芯片檢查金相顯微鏡
LW400MT系列正置明暗場偏光透反射金相顯微鏡是一種多用途工業檢驗用顯微鏡，配有五孔轉換器，明/暗場物鏡，大視野目鏡，100W大功率反射式及30W透射式“柯勒”照明系統，視場清晰明亮，并可配落射暗場照明裝置。可用于半導體硅晶片、掩膜板，LCD基板，電路板，固體粉末及其它各種透明或不透明工業試樣的檢驗；也可作生物試樣、金相試樣礦物試樣及巖相試樣的檢驗。
LW300LMDT--DIC正置明暗場金相顯微鏡
LW300LMDT--DIC微分干涉相襯顯微鏡適用于對多種物體的顯微觀察。配置落射DIC觀察系統與透射照明系統、無限遠長距平場消色差物鏡、大視野目鏡和偏光觀察裝置，具有圖像立體感且清晰、造型美觀，操作方便等特點，是生物學、金屬學、礦物學、精密工程學、電子學等研究的理想儀器。
LW300LJT正置芯片檢查顯微鏡
LW300系列無限遠正置金相顯微鏡是適用于對不透明物體的顯微觀察。本儀器配有透反射照明器、無限遠平場消色差物鏡、大視野目鏡、圖像清晰、襯度好、同時配有偏光裝置。
LW300LMDT明暗場芯片檢查顯微鏡
LW300LMDT正置明暗視場透反射芯片顯微鏡是一種多用途工業檢驗用光學儀器，配置明/暗場物鏡、大視野目鏡與偏光觀察裝置，透反射照明采用“柯勒”照明系統，視場清晰。可用于芯片、半導體硅晶片、LCD基板、電路板、固體粉未及其它各種透明或不透明工業試樣的檢驗，是生物學、金屬學、礦物學、精密工程學、電子工程學等研究的理想儀器.
LWM400JT芯片檢查金相顯微鏡
芯片檢查顯微鏡適用于對不透明物體的進行顯微觀察。配置大移動范圍的機械式載物臺、落射照明器、內置偏光觀察裝置，具有圖像清晰、襯度好，造型美觀，操作方便等特點，是金屬學、礦物學、精密工程學、電子學等研究的理想儀器。適用于學校、科研、工廠等部門使用。
LW200-2JT三目正置金相顯微鏡
正置金相顯微鏡是適用于對不透明物體的顯微觀察。本儀器配有落射照明器、平場消色差物鏡、大視野目鏡、圖像清晰、襯度好、同時配有偏光裝置。本系列產品適合電子，冶金、化工和儀器表行業用于觀察透明、半透明或不透明的物質，如金屬陶瓷、電子陶瓷、集成塊、印刷電路板、液晶板、薄膜、纖維、鍍涂層以及其它非金屬材料，也適合醫藥、農林、公安、學校、科研部門作觀察分析用。
LWD300系列數碼倒置明暗場金相顯微鏡
LWD300系列數碼倒置明暗場金相顯微鏡，內置二次開發的數字攝像系統，進口的芯片由中科院屬企業精心打造，細膩逼真的圖像效果是儀器高品質標準的重要體現，同時免去使用者攝像頭裝卸和同步校正的麻煩。采用優良的無限遠光學系統，可提供卓越的光學性能。緊湊穩定的高剛性主體，充分體現了顯微鏡操作的使用要求！ ? ? ? ??
LWD200-4T倒置金相顯微鏡
倒置金相顯微鏡，適用于廠礦企業、高等院校及科研等機構作材料的表面組織結構觀察和機械狀態檢測之用。也是金相、巖相、礦相、晶體等方面的實驗與分析的首選。
V5雙桿萬能支架
V5雙桿萬能支架：底板尺寸：330×330×17.5mm；立柱直徑為32mm；總高度為410mm。
LW300MT正置芯片檢查金相顯微鏡
專為微電子行業量身定做，適用于硅、砷化鎵、磷化銦等基片6″8″盤的生產工藝檢查；可以方便的快移和精確的位移檢查；也可以適用其它需較大面積標本的工藝檢查。
LWD200-4XB雙目倒置金相顯微鏡
本儀器是用戶鑒別和分析各種金屬和合金的組織結構。可廣泛地應用在工廠或實驗室進行鑄件質量的鑒定。原材料的檢驗或對材料處理后金相組織的研究分析等工作。
4XC倒置金相顯微鏡
4XC系列倒置金相顯微鏡主要用于鑒別和分析金屬內部結構組織，倒置金相顯微鏡是金屬學研究金相的重要儀器。鑄造。冶煉、熱處理的質量研究，原材料的檢驗或材料處理后的分析等均可使用倒置金相顯微鏡。
CDM-999C大視野金相顯微鏡
內置視場光欄、孔徑光欄、(黃、藍、綠、磨砂玻璃)濾色片轉換裝置，推拉式檢偏器與起偏器，粗微動同軸調焦,帶鎖緊和限位裝置,微動格值:0.7μm，機械式載物臺，外形尺寸：280mmX270mm，移動范圍：橫向（X）204mm，縱向（Y）204mm。高清工業級攝像器300萬像素500萬像素1000萬像素USB信號輸出。
TVM-630型大平臺金相顯微鏡
TVM-630系列大平臺金相顯微鏡適用于對不透明物體的顯微觀察。大平臺金相顯微鏡配有大移動范圍的載物臺、落射照明器、平場消色差物鏡、大視野目鏡，圖像清晰、襯度好，同時配有偏光裝置。大平臺金相顯微鏡適宜于大物體表面上的特定范圍內微小目標的觀察研究和分析。廣泛地應用于電子、化工和儀器儀表行業觀察不透明的物質。如集成電路、電子芯片、印刷電路板、液?晶板、線材、纖維、鍍涂層以及其它非金屬材料等，對一些表面狀況進行研究分析等工作。
TMG-300透反射式硅片檢測顯微鏡
TMG-300透反射式硅片檢測顯微鏡主要用于太陽能電池硅片的觀察。它能產生高清晰的圖像,立體感較強，成像較清晰和寬闊，又具有長工作距離，并具有較大的視場范圍和相應的放大倍數,?配有高像素的數碼攝像頭,可以很清楚地看到硅片的”金字塔”?的微觀形貌分布情況,及硅片的缺陷分析服務.是太陽能電池硅片的普遍專用顯微鏡。
TMG-600明暗場正置透反射硅片檢測顯微鏡
TMG-600明暗場硅片檢測顯微鏡是適用于對太陽能電池硅片的顯微觀察。本儀器配有大移動范圍的載物臺、落射照明器、長工作距離的平場消色差物鏡、大視野目鏡，圖像清晰、襯度好，同時配有偏光裝置，及其高像素的數碼攝像頭.?本儀器配有暗場物鏡,使觀察硅片時圖像更加清晰,是檢測太陽能電池硅片的”金字塔”?的微觀形貌分布情況,及硅片的缺陷分析的理想儀器.?
4XA單目倒置金相顯微鏡
4XA單目倒置金相顯微鏡廣泛應用在學校、工礦企業實驗室，以鑒別和分析各種金屬和合金的組織結構，對熱處理后否材料作一般金相組織的研究工作。顯微鏡成像清晰，視野寬廣，整體設計復合人機功能，適合長時間操作。
4XB雙目倒置金相顯微鏡
?4XB系列倒置金相顯微鏡用以鑒別和分析各種金屬和合金的組織結構。倒置金相顯微鏡可廣泛地應用在工廠或實驗室進行鑄件質量的鑒定，原材料的檢驗或對材料處理后金相組織的研究分析等工作。倒置金相顯微鏡成像清晰、視野寬廣，整體設計符合人體工程學原理。倒置金相顯微鏡可在計算機（數碼相機）顯示屏幕上觀察實時動態圖像,并能將所需要的圖片進行編輯、保存和打印。?
CDM-560中檔型正置金相顯微鏡
透反射金相顯微鏡適宜于微小和不方便倒置的試樣，及需要尋找特定范圍目標試樣的觀察研究和分析。透反射金相顯微鏡配有落射照明器（同軸反射）和透射照明器，不僅可以鑒別和分析各種金屬、合金材料、非金屬物質的組織結構及集成電路、微顆粒、線材、纖維、表面噴涂等的一些表面狀況，透反射金相顯微鏡還可以廣泛地應用于電子、化工和儀器儀表行業觀察不透明的物質和透明的物質。如金屬、陶瓷、集成電路、電子芯片、印刷電路板、液晶板、薄膜、粉末、碳粉、線材、纖維、鍍涂層以及其它非金屬材料等。
CDM-960高檔型金相顯微鏡
CDM-960透反射金相顯微鏡是適用于對不透明物體或透明物體的顯微觀察。本儀器配置落射與透射照明系統、長距平場消色差物鏡(無蓋玻片)、大視野目鏡和內置偏光觀察裝置，具有圖像清晰、襯度好，造型美觀，操作方便等特點，是生物學、金屬學、礦物學、精密工程學、電子學等研究的理想儀器。適用于學校、科研、工廠等部門使用。
CDM-902高檔倒置明暗場金相顯微鏡
CDM-202/902倒置金相顯微鏡采用優良的無限遠光學系統與模塊化的功能設計理念，可以方便升級系統，實現偏光觀察、暗場觀察等功能。緊湊穩定的高剛性主體，充分體現了顯微鏡操作的防振要求。符合人機工程學要求的理想設計，使操作更方便舒適，空間更廣闊。適用于金相組織及表面形態的顯微觀察，是金屬學、礦物學、精密工程學研究的理想儀器。也適合電子、冶金、化工和儀器儀表行業觀察透明、半透明、不透明的物質，如金屬、陶瓷、集成塊、印刷電路板、液晶板、薄膜、纖維、鍍涂層以及其他非金屬材料，也適合醫藥、農林、公安、學校、科研部
CDM-988明暗場無限遠長工作距離金相顯微鏡
CDM-980/988工業檢測顯微鏡適用于對工件表面的組織結構與幾何形態進行顯微觀察。采用優良的無限遠光學系統與模塊化功能設計理念，可以方便升級系統，實現偏光觀察、暗場觀察等功能，導柱升降裝置，可以快速調整工作臺與物鏡之間的距離，適用于不同厚度工件檢測。機械移動式載物平臺可有效定位工件觀察部位。調焦機構采用圓柱滾子導向傳動，機構升降平穩。產品適用于精密零件，集成電路，包裝材料等產品檢測。