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產品概述
研究級12寸大平臺半導體檢查顯微鏡CM120BD廣泛應用于芯片/晶圓/LCD,粒子爆破檢查等行業使用。采用半復消技術,集明場,暗場及偏光等多種照明方式,任何觀察都能呈現清晰銳利的顯微圖像,其微分干涉效果可與進口品牌相媲美。用戶可根據實際應用進行功能選擇,是工業檢測的有效工具。特別是針對線路板切片測量,晶圓檢測,金相材料,高分子材料等尺寸較大的樣器進行分析檢測,本機配備了偏振系統可做偏光檢測,在半導體和PCB檢測中,可消除雜光,細節更加清晰。同時可以選配DIC干涉附件插入DlC棱鏡,可進行DIC微分干涉相襯觀察。DIC技術可以使物體表面微小的高低差產生明顯的浮雕效果,大幅提高圖像對比度,特別適合觀察導電粒子。
性能特點
1、采用明暗場半復消物鏡,成像清晰。
2、配置12寸大平臺,帶快速移動裝置。
3、配置有偏光裝置,適合觀察高反光材料的表面;
顯微鏡參數
序號 |
名稱 |
技術參數 |
1 |
平場目鏡 |
正像大場高眼點目鏡PL10X/25mm |
2 |
物鏡 |
無限遠長工作距明場半復消色差金相物鏡2.5X NA0.08 WD9.2 (選購) 無限遠長工作距明暗場半復消色差金相物鏡5X NA0.15 WD15 無限遠長工作距明暗場半復消色差金相物鏡10X NA0.30 WD8.4 無限遠長工作距明暗場半復消色差金相物鏡20X NA0.40 WD11.9 無限遠長工作距明暗場半復消色差金相物鏡50X NA0.75 WD3.0 無限遠長工作距明暗場半復消色差金相物鏡100X NA0.90 WD1.0(選購) |
3 |
光學放大倍數 |
50X-500X(選購100倍物鏡后放大倍數25-1000X) |
4 |
數碼放大倍數 |
75-3000X(搭配1200萬相機及100倍物鏡,顯示器22英寸情況下) |
5 |
觀察頭 |
鉸鏈三通觀察筒,瞳距調節:50mm~76mm,兩檔分光比雙目:三目=100:0 |
6 |
轉換器 |
5孔明暗場物鏡轉換器(帶DIC插槽). |
7 |
調焦機構 |
反射用機架, 低手位粗微同軸調焦機構。粗調行程35mm,微調精度0.001mm。帶有防止下滑的調節松緊裝置和隨機上限位裝置。 |
8 |
載物臺 |
12英寸載物臺,平臺面積?760*430mm,玻璃臺面310*418mm,移動行程:300mmX300mm機械平臺,X、Y方向同軸調節;含快速移動裝置 |
9 |
晶圓轉臺 |
12寸通用晶圓轉臺(選購) |
10 |
偏光組件 |
起偏鏡插板,360°旋轉式檢偏鏡插板 |
11 |
反射照明系統 |
明暗場反射照明器,帶可變孔徑光闌,視場光闌,中心可調,帶濾色片插槽,帶起偏鏡/檢偏鏡插槽,10W可調LED燈室,透、反射通用,預定中心 |
13 |
聚光鏡 |
搖出式消色差聚光鏡(N.A.0.9) |
14 |
攝像接口 |
0.65倍專用攝像接口 |
15 |
干涉組件 |
諾曼爾斯基微分干涉片(選購) |
16 |
高清1200萬顯微相機 或2000萬像素或自動對焦相機(選購) |
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17 |
圖像處理軟件 |
拍照,錄像,測量,實時圖像拼接,景深融合等(選購) |
18 |
標尺 |
高精度型測微尺,格值0.01m 總長1mm(選購) |